良好的擴展功能，遠矚   

低使用成本設計，經濟實用。

 

分光系統

 

凹面全息離子刻蝕光柵

光柵焦距600mm

光柵刻線數2400條/mm

檢測波長范圍120-800nm

 

光源系統

 

激發電壓500V/300V軟件設置自動轉換

6種激發光源

放電參數可根據不同分析要求調節

水平氬氣保護發光臺

數據處理系統及分析軟件

外置式品牌計算機及打印機

 

Windows操作系統

 

易于操作的PDA-Win分析軟件包

數據管理功能

分析情報保護功能

 

電源和環境要求

 

220V±10%，50/60Hz，功率4KVA

單獨地線＜30Ω（干燥地區＜10Ω）

溫度10-30℃（每小時變化＜5℃）

濕度 80%以下

重量約500kg，尺寸W1550×D620×H253

※外觀及規格如有變動，恕不另行通知。

發射光譜分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）

    所謂發射光譜分析是指使用放電等離子體蒸發氣化來激發樣品中的目標元素，根據得到的元素固有的亮線光譜（原子光譜）的波長進行定性，并根據發光強度進行定量的分析方法。

    廣義上講，激發放電（光源）還包括使用ICP（Inductively coupled plasma 電感耦合等離子體）作為激發放電（光源）的ICP發射光譜分析。但發射光譜分析（發光分析）或光電測光式發射光譜分析，是指使用火花放電/直流電弧放電 /輝光放電作為激發放電的發射光譜分析。發射光譜分析中，在固體金屬樣品和與電極之間發生放電。

    島津的發射光譜分析裝置是在氬氣氛圍中進行火花放電，對火花脈沖的發光進行統計處理，采用可提高測定重現性（精度）的方式（PDA測光方式：Pulse Distribution Analysis）。

    發射光譜分析裝置可快速測定固體金屬樣品的元素組成，是在煉鐵、鋁冶煉工藝管理用中的手段。