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簡介：THEIA是一款高性能，穩定，靈活，可靠且安全的研發型原子層沉積系統，兼具工業生產解決方案的優勢。THEIA超快平面原子層沉積系統可進行升級改造，從而滿足科學研究的各種需求，并實現從“研發”到“生...

簡介：PANDORA是高度集成的臺式原子層沉積系統，可擺放在實驗室的任意角落，采用旋轉式反應腔實現對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應臺，實現樣品的切換。PANDORA多...

簡介：P系列粉末原子層沉積系統是ForgeNano針對工業包覆研發的粉末ALD負載系統，可實現kg級粉末批量包覆，是工業生產前理想的研發工具。

簡介：芬蘭PICOSUN公司是ALD技術發明人TuomoSuntola創立的，與Picosun專家隊伍被稱為ALD的

簡介：粉末原子層沉積系統ALD美國ALDNANOSOLUTIONS公司技術，專注于粉末顆粒表面鍍膜

簡介：SAL3000原子層沉積系統是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優異的膜厚分布外，還可進一步通過改變鍍...

簡介：SAL-3000PlusALD原子層沉積系統是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統，可通過連接STR2000轉移單元，與退火設備SAN2000Plus，鍍膜設備，SVE2000Plus蒸鍍設備SSP...

簡介：SAL1000系列桌面型ALD原子層沉積系統是由日本AGUS生產的桌面型ALD原子層沉積設備，可搭載2路前驅體。適用于4英寸（φ100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。

簡介：臺式三維原子層沉積系統-ALD是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“...

簡介：該PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備系統可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。可選用射頻（RF）、空陰*密度等離子體（HCD）源、感應耦合等離子體（I...