二氧化硅分析裝置自動連續監測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現性高，既可以檢測低濃度二氧化硅，也可檢測高濃度二氧化硅，可有效提高鍋爐的啟動時間，強化半導體和化工領域的質量管理。

產品介紹

二氧化硅分析裝置

自動連續監測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現性高，既可以檢測低濃度二氧化硅，也可檢測高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動時間，強化半導體和化工領域的質量管理。

測量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L

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自動連續監測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現性高，既可以檢測低濃度二氧化硅，也可檢測高濃度二氧化硅，可有效提高哦啊鍋爐的啟動時間，強化半導體和化工領域的質量管理。

測量范圍：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L