無油高真空系統，適合于高分辨率FE-SEM觀察前樣品鍍膜機TEM/EDX噴涂要求；也可應用于制備多層膜樣品
*功能：金屬濺射鍍膜/輝光放電/蝕刻（樣品清潔）/碳絲蒸發鍍膜/碳棒蒸發鍍膜/金屬熱阻蒸發鍍膜/加裝液氮冷臺（適配EM VCT100)
*帶有金屬靶檔板，適用于特殊濺射靶材的預濺射，確保鍍膜純度
*可選配石英膜厚監控器，可程序化控制膜厚，并反饋鍍膜儀
*樣品室尺寸：標配?106mm,選配?205mm（可容納wafer 152mm/6"圓形或127mm/5"方形）
*操作簡單，帶有LED指示，機身印有操作說明
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