徠卡EM TXP,一款集切割、磨拋、銑削與沖鉆于一身的工具,可對(duì)樣品目標(biāo)精細(xì)定位,尤其擅長(zhǎng)對(duì)肉眼難以觀(guān)察的微小目標(biāo)進(jìn)行定位處理。對(duì)微電子的定位處理,用EM TXP快速精準(zhǔn)。 以下介紹EM TXP針對(duì)一塊PCB上一個(gè)長(zhǎng)不足1mm的電阻的截面處理方法。下圖為PCB板的一角在體式顯微鏡55X下觀(guān)察的形貌,目標(biāo)位置是紅色橢圓圈內(nèi)的電阻,接下來(lái)采用EM TXP切割、磨拋后用金相顯微鏡觀(guān)察。 |
該P(yáng)CB板易碎,為防止其受破壞,用標(biāo)樂(lè)的樹(shù)脂進(jìn)行包埋并用粗砂紙磨至如下圖形狀:
采用的工具如下圖所示:
左圖用TXP的扁平夾具對(duì)樣品進(jìn)行夾持,右圖1至5編號(hào)依次對(duì)應(yīng)的工具為:金剛石鋸片、30um磨片、9um磨片、2um磨片、0.05um拋光布。
采用金剛石鋸片,切至靠近目標(biāo)的位置。下圖左為EM TXP的工作區(qū)示意,圖右為切割過(guò)程示意。
①30um金剛石砂紙粗磨,磨至電阻即停止,如圖紅色圈內(nèi)即目標(biāo)電阻。
②9um金剛石砂紙粗磨,進(jìn)取行程約為60um,制備示意如下左圖,效果如下右圖:
③2um金剛石砂紙細(xì)磨,進(jìn)取行程約為18um,制備示意如下左圖,效果如下右圖:
④0.05um氧化鋁拋光,拋至光滑即可,制備示意如下左圖,效果如下右圖:
TXP的整個(gè)處理過(guò)程,僅需20min。
采用徠卡金相顯微鏡DM4M,對(duì)結(jié)果進(jìn)行觀(guān)測(cè)(如下圖所示)。制備整體效果如下左圖,可清楚看出左邊的錫中存在一個(gè)大氣孔;下右圖則可清晰觀(guān)測(cè)到合金層。
1、包埋(鑲嵌)
采用冷鑲嵌的方式,冷鑲所用的耗材如下:
標(biāo)樂(lè)型號(hào)為EpoKwickT M FC的環(huán)氧樹(shù)脂及相應(yīng)固化劑套裝;
標(biāo)樂(lè)型號(hào)為ReleaseAgen的脫模劑。
2、顯微鏡觀(guān)察
采用徠卡金相顯微鏡DM4M,在明場(chǎng)的條件下進(jìn)行拍攝,物鏡倍數(shù)根據(jù)需要可選擇5X、10X、20X、50X、100X, 目鏡為10X。
徠卡DM4M金相顯微鏡