MV1000工業顯微鏡廣泛應用于半導體,電子工業進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究.

    MV1000工業顯微鏡廣泛應用于半導體,電子工業進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究.

    配備有反射照明,成象和觀察系統,偏光裝置.

    Industrialmicroscopeiswidelyusedforcrystal,integratedcircuit(IC)examinationandresearch.Itissuppliedwithreflectedillumination,imagingandviewingsystem,polarizedimagingsystem.

   MV1000大景深金相顯微鏡規格Specifications

    1、◇無限遠光學系統,管鏡焦距200mm

    InfinitiveOpticalSystem,TubeLensFocalLength200mm

    2、◇鉸鏈式三目鏡筒,30°傾斜,瞳距55-75mm

    CompensationFreeTrinocularTube,Inclinedat30°,InterpupillaryDistance55-75mm

    3、◇高眼點,大視場目鏡WF10X/22

    HighPointandWideFieldEyepieceWF10/22

    4、◇長工作距離,平場復消色差物鏡2X/0.055,5X/0.14,10X/0.28,20X/0.29,50X/0.42

    LongWorkingDistance,PlanApoObjectives2X/0.055,5X/0.14,10X/0.28,20X/0.29,50X/0.42

    5、◇五孔物鏡轉換器

    QuintupleNosepiece

    6.◇6″雙層活動平臺和圓平臺

    6″DoubleLayersMechanicalStageandcirclestage

    7、同軸粗微調焦機構,微動格值0.002mm

    CoaxialCoarse&FinFocusAdjustmentSystem,FineDivision0.002mm

    8、◇照明系統Illuminattem12V50W鹵素燈照明

    9、圖像采集裝置CV320

    10、顯微圖像分析軟件ImageAnalysisSystem11.0。