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掃描電鏡和能譜分析儀

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日本Hitachi在電子顯微鏡領域一向以技術潮流著稱:1972年發布一臺場透射電子微鏡,經過30多年的發展,日立開發、應用了大量的新技術,例如電子槍多重偏壓、浸沒式(In-lens)、半浸沒式(SemiIn-lens)物鏡、ExB式探測器,電子減速功能等等

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日本Hitachi在電子顯微鏡領域一向以技術潮流著稱:1972年發布一臺場透射電子微鏡,經過30多年的發展,日立開發、應用了大量的新技術,例如電子槍多重偏壓、浸沒式(In-lens)、半浸沒式(Semi In-lens)物鏡、E x B式探測器,電子減速功能等等。推出了一系列性能優異、應用廣泛的新型號電鏡,受到了用戶的。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外,在北美和歐洲也擁有研究開發中心,在六十多個國家經營銷售、技術支持和提供維修服務。 Hitachi公司將納米尺度呈獻給研究人員和生產廠商。

在成功推出S-3000系列后,推出新型S-3400N型鎢燈絲SEM,它集成了Hitachi多年開發的新技術,例如新型電子槍、大錐角物鏡、5分割半導體式背散射探頭、物鏡光闌自動合軸等等,極大地提高設備的性能和應用擴展能力、使操作和維護更加簡易。

S-4800屬于場發射SEM,它集成S-4700S-5200型的優點,采用新型E x B式探測器和電子束減速功能提高了圖像質量,特別是低電壓的圖像分辨率;新型的透鏡系統,提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距離模式、磁性樣品模式等多種工作模式。
作為掃描電鏡配套的能譜分析儀器,我們供應日本Horiba公司或美國EDAX公司的產品。
S-4800場發射SEM系統:
1. 分辨率:二次電子(SE)成像:高真空模式:1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率:低倍模式20 ~2,000倍;高倍模式100 800,800
3. 電子槍:冷陰極場發射電子源,束流1pA2nA;加速電壓:0.5~30 kV;3級電磁透射會聚系統
4. 樣品室可容納樣品左右直徑200 mm,同心樣品臺,四軸自動,可安裝EDS、冷卻臺附件
5. 移動范圍:X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°傾斜T:范圍不小于-5°70°(手動)
6. 探測器:二次電子檢測器、固體背散射電子檢測器;樣品室 IR-CCD 相機
7. 圖像掃描:不低于5120×3840像素;圖像顯示1280×960像素


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