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Zeta-20臺階儀(光學輪廓儀)

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產品描述Zeta-20臺式光學輪廓儀的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學量測技術

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產品描述

Zeta-20臺式光學輪廓儀的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學量測技術。ZDot測量模式可同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta-20也是一種顯微鏡,可用于樣品復檢或自動缺陷檢測。Zeta-20通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能,適用于研發及生產環境。

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主要功能

·   采用ZDotMulti-Mode(多模式)光學器件的簡單易用的光學輪廓儀,具有廣泛應用

·   可用于樣品復檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡

·   ZDot:同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像

·   ZXI:白光干涉測量技術,適用于z向分辨率高的廣域測量

·   ZIC:干涉對比度,適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數據

·   ZSI:剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像

·   ZFT:使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

·   AOI:自動光學檢測,并對樣品上的缺陷進行量化

·   生產能力:通過測序和圖案識別實現全自動測量


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主要應用

·   臺階高度:納米到毫米級別的3D臺階高度

·   紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

·   外形:3D翹曲和形狀

·   應力:2D薄膜應力

·   薄膜厚度:30nm100μm透明薄膜厚度

·   缺陷檢測:捕獲大于1μm的缺陷

·   缺陷復檢:采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置


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工業應用

·   太陽能:光伏太陽能電池

·   半導體和化合物半導體

·   半導體 WLCSP(晶圓級芯片級封裝)

·   半導體FOWLP(扇出晶圓級封裝)

·   PCB和柔性PCB

·   MEMS(微機電系統)

·   醫療設備和微流體設備

·   數據存儲

·   大學,研究實驗室和研究所

·   更多信息,請聯系我們以滿足您的要求


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