| 金刻蝕光柵 |
>>> 選擇光柵需要考慮的問題
該系列光柵主要用于高功率以及高效率的應用。 我們在金材料上設計和刻蝕光柵，用于紅外波段（4～12微米）的激光應用。金光柵特別適合于追求高效率紅外激光應用。在高功率應用中，為了避免高功率激光打壞光柵，通常都要在光柵上鍍一層鋁。該系列光柵的基質是不脹鋼或者陶瓷。如果您希望用其他基質，可以和公司聯系。
產品性能 ●在特殊基質上刻蝕的金層可以用于4～12微米的應用。 ●在銅基質上鋁層刻蝕出來的是標準的分子激光光柵。 主要參數 線密度g/mm .............. 70～ 450 工作范圍(µm) ............. 4～12 基質 ................... 銅，不脹鋼，陶瓷，硅 通光孔徑 ............... 90% 劃線與邊緣的平行度 ....... ± 0.5° 尺寸公差 ................ ± 厚度公差 ............... ± 典型峰值效率（偏振）.................≥95% |
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