法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗，其研發的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理大直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。

KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列

圖片

簡介

法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗，其研發的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理大直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列*的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其小分辨率可達2μm，大發散角小于2°

本系統適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

規格參數

功能圖解

UV-KUB 2型光刻機，是市場上一款采用UV-LED光源系統的光刻機，其配備了基于LED光源的光學頭，使用壽命大大提高，結構小巧，性價比高，非常適合實驗室應用。

UV-KUB 3是一款帶對位功能的UV-LED曝光機，光源為365nm，其觸摸屏和CCD相機代替了傳統的顯微鏡及雙筒目鏡，控制器提供了圖像捕獲、測量以及對齊坐標的記錄等功能，可以實現預對準，這樣，用戶再通過操作手柄便能方便的進行終的對準操作。

UV-KUB 2 

UV-KUB 3

應用系統

微流控芯片

MEMS器件