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簡介：ZR-4200系列鍍膜、提拉機是一款專門為液相制備薄膜材料而設計的精密儀器，可在不同液體中浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調；對鍍膜基...

簡介：提拉機是一款專門為液相制備薄膜材料而設計的精密儀器，可在不同液體中浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續可調；對鍍膜基質無特殊要求，運行穩定，...

簡介：DE300電子束蒸發系統LOADLOCK預真空進樣室(可選)前開門蒸發腔體冷凝泵和干泵多坩堝位旋轉電子槍zui大6”基片基片旋轉基片偏壓(可選)離子源清洗基片(可選)基片加熱1000度(可選)晶振...

簡介：浸漬鍍膜機(Dip-Coater)儀器用途：用于溶液中的物質在基片上的成膜儀器原理：固體基片在沒有表面壓縮時，單一的浸入溶液，然后從溶液中退出，溶液中的材料就沉積到基片表面。

簡介：TheDE400DThermalEvaporatorisassembledwithmultiplethermalevaporationsource,thesubstrateismountingon...

簡介：TheDE400DElectronBeamEvaporatorisassembledwithonee-beamsource,thesubstrateismountingonthetopofthec...

簡介：DE400電子束蒸發儀配置一個電子束蒸發源，基片架裝于腔體側面水平轉動的軸上，基片可以改變鍍膜角度

簡介：前開門濺射腔體冷凝泵和干泵1個6”磁控濺射源射頻電源側面濺射zui大6”基片基片水冷PID濺射壓力控制系統手動或自動控制高速率濺射二氧化薄膜

簡介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個濺射源和一個樣品臺可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導體及介質材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...

簡介：太陽能集熱管（光熱管）浸漬提拉鍍膜設備專門為用于溶膠-凝膠浸漬提拉法對太陽能集熱管、光熱管的表面鍍膜而設計。