有兩種薄膜,低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度,適合高溫和差壓環(huán)境;G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺,非常適合x射線顯微鏡和需要無氮?dú)獗尘暗姆治觥_@些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學(xué)技術(shù)的理想襯底,經(jīng)過等離子清洗,無有機(jī)污染。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場(chǎng)到場(chǎng)可變性和高x射線透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口,適合生物成像研究,具有玻璃狀親水表面。外框硅材質(zhì),外框大小5*5mm,框厚310µm,膜厚度300nm。無褶皺,與超高真空(UHV)應(yīng)用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口,外框大小5*5mm,框厚320µm,200 MP 低應(yīng)力無孔氮化硅。

產(chǎn)品信息:
貨號(hào) | 產(chǎn)品描述 | 窗口(Sq.) | 膜厚 | 規(guī)格 |
76042-10 | G-FLAT™ SiO X-Ray Window | 500µm | 100nm | 20/pk |
76042-11 | G-FLAT™ SiO X-Ray Window | 500µm | 300nm | 20/pk |
76042-12 | Silicon Nitride X-Ray Window | 500µm | 50nm | 20/pk |
76042-13 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1000µm | 50nm | 20/pk |
76042-14 | Silicon Nitride X-Ray Window | 500µm | 100nm | 20/pk |
76042-15 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1000µm | 100nm | 20/pk |
76042-16 | Silicon Nitride X-Ray Window | 1500µm | 200nm | 20/pk |
76042-17 | Silicon Nitride X-Ray Window | 2500µm | 200nm | 20/pk |