網格陣列位于50mm×50mm,1.5mm厚度的玻璃基底上(玻璃基底上真空濺射低反射率的鉻制成),100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm網格間距,25×25陣列。
網格分布用于決定成像系統的畸變。理想情況下,網格的水平和豎直線是垂直的,畸變圖像會在線上顯示扭曲,這種圖像可以用于修正畸變。

訂購信息:
貨號 | 產品描述 | 規格 |
R1 | Grids with line pitch of 2000微米,間距2000微米 | 個 |
R2 | Grids with line pitch of 1000微米,間距1000微米 | 個 |
R3 | Grids with line pitch of 500微米 | 個 |
R4 | Grids with line pitch of 250微米 | 個 |
R10 | Grids with line pitch of 100微米 | 個 |