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X射線熒光分析的原理及應用

   2018年08月03日 15:44  
  【中國儀器網 使用手冊】X射線熒光分析(XRF)——是對任何種類的樣品進行元素分析的好分析技術,無論必需分析的樣品是液體、固體還是粉末。XRF可以將高的準確度和精密度與簡單和快速的樣品準備結合,對鈹 (Be) 到鈾 (U) 的元素喜遷分析,濃度范圍從 100 % 到低至亞 ppm 級。
 
  作為一種確定各種材料化學組成的一種分析方法,XRF的被測材料可以是固體、液體、粉末或其它形式。XRF還可測定鍍層和薄膜的厚度及成分。XRF具有分析速度快、準確度高、不破壞樣品及樣品前處理簡單等特點。應用范圍廣泛,涉及金屬、水泥、油品、聚合物、塑料、食品以及礦物、地質和環境等領域,在醫藥研究方面,XRF也是一種非常有用的分析方法。
 
  X熒光光譜儀可分為能量色散(EDXRF)和波長色散(WDXRF)兩大類,隨后將詳細介紹。可分析的元素及檢測限主要取決于所用的光譜儀系統。EDXRF分析的元素從Na到U; WDXRF分析的元素從Be到U。濃度范圍從ppm到100%。通常重元素的檢測限優于輕元素。
 
  XRF分析的精密度和重現性很高。若有合適的標準,分析的準確度非常高,當然沒有標準時也可以分析。測量時間取決于待測的元素數目和要求的精度,在幾秒至30分鐘間變動。測量后的數據處理時間只需幾秒鐘。
 
  在XRF中,樣品受光源產生的X射線照射。通常,這種光源是一種X光管。樣品中存在的元素發射出能量不同(分立)的標征這些元素的熒光X射線輻射(相當于可見光不同的顏色)。不同的能量相當于不同的顏色。通過測定樣品發射的輻射能量(決定顏色)就可以確定樣品中存在那些元素,此步即稱為定性分析。通過測定能量的強度可以知道元素的含量,這就是定量分析。
 
  特征X熒光射線的產生
 
  經典的原子模型中,原子是由原子核和核外電子組成,原子核由帶正電的質子和不帶電的中子組成,核外電子分布在一定的軌道上,內層稱K層,往外依次為L層、M層等,L層又分為LⅠ、LⅡ和LⅢ三個子殼層,M層分為MⅠ、MⅡ、MⅢ、MⅣ和MⅤ五個子殼層。K層有2個電子,L層有8個,M層有18個。一個電子所具有的能量取決于它所屬的元素及所處的殼層。當采用能量足夠高X光子和電子輻照原子時,就會從原子中逐出電子。
 
  注意XRD與XRF波長色散的區別和聯系,XRF分光晶體即為XRD的樣品,也就是說晶格常數是已知的。
 
  1,用途不同。XRD是x射線衍射光譜,(X-ray diffraction analysis)是用于測定晶體的結構的,而XRF是x射線熒光發射譜,(X-ray fluorescence analysis)主要用于元素的定性、定量分析的,一般測定原子序數小于Na的元素,定量測定的濃度范圍是常量、微量、痕量。
 
  2,原理上的差別。XRD是以X射線的相干散射為基礎,以布拉格公式2d sinθ=nλ、晶體理論、倒易點陣厄瓦爾德圖解為主要原理的;
 
  XRF則是以莫斯萊定律(1/λ)1/2=k(Z-S),k,S是與線性有關的常數。因此,得出不同元素具有不同的X射線(即特征線)為基礎對元素定性、定量分析的。布拉格方程是結構分析的基本和重要的公式 。
 
  X射線是原子內層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產生的光輻射,主要有連續X射線和特征X射線兩種。晶體可被用作X光的光柵,這些很大數目的粒子(原子、離子或分子)所產生的相干散射將會發生光的干涉作用,從而使得散射的X射線的強度增強或減弱。由于大量粒子散射波的疊加,互相干涉而產生大強度的光束稱為X射線的衍射線。滿足衍射條件,可應用布拉格公式:2dsinθ=nλ
 
  應用已知波長的X射線來測量θ角,從而計算出晶面間距d,這是用于X射線結構分析;另一個是應用已知d的晶體來測量θ角,從而計算出特征X射線的波長,進而可在已有資料查出試樣中所含的元素。
 
  另一種能量色散EDS的熒光法常與掃描電鏡聯用
 
  EDS是半定量分析,誤差一般在5%~10%左右,是自動判斷出元素后需要根據樣品,人為的添加或去除某些不可能存在的元素,如果元素一點都沒有顯示也是0,這個還是具有一點的參考值,EDS是利用電子激發原子內層電子產生空位,更高原子能級電子躍遷產生特征X射線,從而進行元素分析。特征X射線的強度與很多因素有關,比如表面含量、電離截面、X射線產率等,特征X射線的產生與俄歇電子的產生是競爭關系,與元素的原子序數有關,隨著原子序數的減少,俄歇電子的產率增加,而特征X射線的產率降低,當原子序數=19(即K元素)時,俄歇電子的產率是90%,相應的特征X射線的產率=10%,因此,EDS適用于對于檢測原子序數較大的元素比較準確,而在原子序數較小的元素的檢測對儀器、操作條件以及樣品等的要求就很高。

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