一、化學吸附儀使用流程
1、在化學吸附儀反應器內裝入樣品
2、打開化學吸附儀主機電源,打開操作軟件
3、在閥2接入氧氣,打開閥2,閥7打向閥2,閥8打向放空,處理氣流量計調至40-60mL/min,進行樣品升溫氧化,氧化溫度及時間視具體樣品而定
4、在閥1接入氬氣,閥7打向閥1,設定1、2號質量流量計流速為30mL/min,放下加熱爐,降溫吹掃至加熱爐降至室溫
5、將閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min,閥8打向TCD
6、打開TCD,基線平穩后升起加熱爐,開始程序升溫
7、峰圖出完基線平穩后,關閉TCD,關閉溫控器,降下加熱爐,保存數據
8、將閥1切至氬氣吹掃5-10min
9、關閉氣體,關閉化學吸附儀主機電源,關閉操作軟件
二、化學吸附儀注意事項
1、先通載氣再打開TCD,結束后先關閉TCD再處理其他操作(以防燒壞TCD)
2、化學吸附儀主機和軟件不具備記憶功能,重新啟動時必須重新設置閥門開關和軟件內1、2號質量流量計流量
3、連續通入氫氣和氧氣處理樣品時,中間必須通入惰性氣體吹掃。
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