Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統,采用結構緊湊、全密閉的工業級激光源,無需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長切換控制,相對應的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環境。
產品特點
美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產品線源于之一的Photon Machines團隊(縮寫PMI),其代產品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產品設計、研發、制造及應用經驗,產品線涉及213nm固體激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(與ICP-MS聯用),及CO2和二極管激光熔融系統(與惰性氣體同位素質譜聯用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統的功能,足以為元素分析用戶提供*的激光剝蝕技術。
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統是市面上很具操作性的飛秒系統,采用結構緊湊、全密閉的工業級激光源,無需二次校準和清潔維護。系統提供多種波長可選,如1028nm、257nm、206nm,或配置多波長切換控制,相對應的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm),在長期穩定運行情況下剝蝕穩定性RSD能達到0.1%。同時系統配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池,提供快速沖洗效率和持續的剝蝕環境。
注:使用飛秒激光剝蝕系統用于化學分析受美國保護(號5656186及RE37585,由美國密歇根大學持有),隸屬于CETAC品牌的Teledyne Photon Machines持有密歇根大學提供的許可,用于提供飛秒激光剝蝕系統。
技術參數
應用領域
基礎分析,半導體材料分析,地質樣品分析,同位素比值研究
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