DVIA-MO系列高精密主動隔振光學平臺可以在低頻范圍（0.5-10Hz）提供非常隔振性能，它可以應用于很多對振動要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀，高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學研究和制備等。

DVIA-MO 系列高精密主動隔振光學平臺是由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。

臺面采用真蜂窩三層夾心式結構，上臺面為熱形變系數很小的430 系列高導磁鎳合不銹鋼，臺面按照25mmX25mm 孔距均布M6 螺紋孔， 方便安裝儀器，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯，方便清潔。中間是真蜂窩支撐結構，是把0.25 毫米厚度的鋼板加工成蜂巢的結構，增加了臺面結構的密度，減小體積，采用先進的粘合工藝，堅固耐用。臺面的底部和側板用碳鋼作為主體材料，具有非常優秀的動態和靜態的剛性。

主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器DVIA-M， 每個支撐里面一般會有4 個DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅動器，主要消除0.5- 10Hz 的外部振動, 被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。

這個系列的平臺可以在低頻范圍（0.5-10Hz）提供非常隔振性能，它可以應用于很多對振動要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀，高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學研究和制備等。

DVIA-MO系列高精密主動隔振光學平臺主動隔振平臺技術指標：

 固有頻率：0.5-100Hz

 自動平衡，響應時間短，平衡速度快

 鋼蜂巢內核：鋼制蜂窩芯，鋼板厚度0.25mm,每個蜂巢面積3.2cm²

 表面平整度：±0.1mm /600 mm²

 臺面：4.0mm厚度430 系列高導磁鎳合不銹鋼

 底面：4.0mm厚碳鋼，表面氧化處理

 邊墻板：2.0mm厚碳鋼，包裹高阻尼聚乙烯材料

 孔徑： M6 (英制螺孔可選)

 孔距：25mmX25mm(英制孔距可選)，zui外邊孔距平臺邊緣37.5mm

 螺孔密封：每個螺紋孔下方設有柱形隔離杯密封，方便清潔

 阻尼隔振方式：寬帶阻尼

DVIA-MO系列高精密主動隔振光學平臺特點：

 具有非常優秀的隔振性能，特別是在低頻0.5Hz- 10Hz達到90%以上的隔振效率；

 采用慣性傳感器，可以檢測出六個自由度的振動，并做補償；

 采用真蜂窩三層夾心式結構臺面，厚度可選100/200/300mm；

 進口精密主動隔振光學平臺；

 隔振性能優異，廣泛應用于掃描探針顯微鏡，原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ，半導體檢測設備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等。

DVIA-MO系列高精密主動隔振光學平臺細節說明：

光學平臺隔振性能參數：

DVIA-M系列主動隔振器參數表：